真空鍍膜冷水機(jī)能夠控制真空鍍膜機(jī)的溫度,以保證鍍件的質(zhì)量。如果不配冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到精度、效率控制溫度的目的,因為自然水和冷卻水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響,而且此方式控制是極不穩(wěn)定的,應(yīng)用于真空鍍膜工藝的冷水機(jī),我們稱之為真空鍍膜冷水機(jī),請隨星德小編一起來了解其工作原理及作用特點(diǎn)。

鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變 得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差?,F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用 下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
真空鍍膜是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種。中頻設(shè)備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體 流動時有一個集膚效應(yīng),電荷會聚集在電導(dǎo)表面,這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
真空鍍膜冷水機(jī)是星德制冷研發(fā)生產(chǎn)的效節(jié)能的制冷設(shè)備,能控制真空鍍膜機(jī)的溫度,以保證鍍件的高質(zhì) 。應(yīng)用于各種真空鍍膜等表面處理領(lǐng)域,是超高真空濺射儀、X光機(jī)、真空爐、鍍膜機(jī)、加速器等科學(xué)儀器的理想配套設(shè)備。
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